%0 Conference Proceedings
%4 sid.inpe.br/mtc-m21b/2015/08.03.16.08
%2 sid.inpe.br/mtc-m21b/2015/08.03.16.08.39
%T Otimização dos parâmetros de deposição de filmes de DLC (Diamond Like Carbon) como função da polarização e largura do pulso em superfície Ti6Al4V
%D 2015
%A Silva, Bruna Henrique da,
%A Trava-Airoldi, Vladimir Jesus,
%@affiliation ETEP
%@affiliation Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
%@electronicmailaddress bruna.hsilva@hotmail.com
%@electronicmailaddress vladimir@las.inpe.br
%B Seminário de Iniciação Científica e Iniciação em Desenvolvimento Tecnológico e Inovação
%C São José dos Campos, SP
%8 30-31 jul.
%I Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais
%J São José dos Campos, SP
%X Com o avanço tecnológico e a busca por novos materiais os filmes de carbonotipo diamante (DLC) são recentemente de grande interesse para grupos científicos e tecnológicos, isso deve-se às suas propriedades, como alta adesão do filme aos substratos metálicos, baixo coeficiente de atrito, diferentes formas e obtenção em grandes escalas. O objetivo deste trabalho está centrado na obtenção de uma relação clara dos parâmetros de descarga e geração do plasma em função da alta tensão de polarização na obtenção do filme de DLC em substratos de liga de Titânio (Ti6Al4V) geralmente muito usada em aplicações espaciais e industriais. Para a obtenção destes resultados, utilizou-se a técnica de deposição DC pulsada PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), esta possibilitou fazer a modificação da superfície e ao mesmo tempo efetuar a deposição do filme de DLC, efetuando manobras de trocas in situ de gases e alteração de parâmetros de nucleação e de crescimento dos filmes de DLC. Para isso, foram utilizadas algumas práticas laboratoriais, inicialmente com os processos de polimento de amostras e em seguida, os procedimentos e técnicas de nucleação e crescimento dos filmes de DLC e as respectivas interfaces. As amostras foram caracterizadas pelas técnicas de Perfilometria óptica e ensaios tribológicos que avaliaram a qualidade dos filmes e adesão com o substrato utilizado.
%@language pt